EUV
EUVとは、Extreme Ultraviolet、日本語では「極端紫外線」と呼ばれ、13.5nm(ナノメートル)の非常に短い波長の光のこと。半導体の微細化が進み、半導体回路を焼き付けるリソグラフィ(露光)装置ではEUVが主流になろうとしている。オランダの半導体製造装置メーカーであるASMLだけがEUVを使ったリソグラフィ装置の開発に2018年に成功し、台湾積体電路製造（TSMC）、韓国サムスン電子、米インテルのファウンドリ企業に導入した。EUVを使った半導体検査装置では、レーザーテックだけが開発に成功している。
